Polerat aluminiumnitrid (ALN) keramiskt substrat

Polerat aluminiumnitrid (ALN) keramiskt substrat

GRWAYPolerat aluminiumnitrid (ALN) keramiskt substratAluminiumnitrid (AlN) keramen har hög värmeledningsförmåga (5-10 gånger som aluminiumoxidkeramen), låg dielektricitetskonstant och förlustfaktor, bra isolering och utmärkta mekaniska egenskaper, giftfri, hög värmebeständighet, kemisk resistans, och linjär expansionskoefficient liknar Si, som används ofta i kommunikationskomponenter, högeffektsled, kraftelektronik och andra områden.Speciella produkter kan tillverkas på begäran.

Aluminiumnitrid (ALN) Keramiskt substrat PRESTANDA

Vanliga mått på AlN-substrat/wafer

PS: Andra dimensioner som inte är listade är tillgängliga på dina önskemål.

Aluminiumnitrid (ALN) Keramiska substrategenskaper

1.Enhetlig mikrostruktur

2.Hög värmeledningsförmåga* (70-180 Wm-1K-1), skräddarsydd via bearbetningsförhållanden och tillsatser

3.Hög elektrisk resistivitet

4. Termisk expansionskoefficient nära den för kisel

5.Beständighet mot korrosion och erosion

6.Utmärkt värmechockbeständighet

7.Kemiskt stabil upp till 980°C i H2- och CO2-atmosfärer, och i luft upp till 1380°C (ytoxidation sker runt 780°C; ytskiktet skyddar bulken upp till 1380°C).